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SOIデバイスでは酸化膜の上にトランジスタが形成されております。
その構造からバルクデバイスに比べ以下のような利点が生じます。
1.消費電力が低減
2.誤動作耐性が向上
3.低電圧動作が可能
これらの特徴を生かしたSOI商品はリアルタイムクロックLSIなどを用意させて頂いております。
SOIデバイスでは酸化膜の上にトランジスタが形成されております。
その構造からバルクデバイスに比べ以下のような利点が生じます。
1.消費電力が低減
2.誤動作耐性が向上
3.低電圧動作が可能
これらの特徴を生かしたSOI商品はリアルタイムクロックLSIなどを用意させて頂いております。